Descriere:

Invenţia se referă la obţinerea unor aliaje nanostructurate de Be-C, Be-W, la o instalaţie experimentală de depunere simultană şi la un procedeu de depunere a unor filme compozite subţiri din aceste aliaje, bazat pe metoda arcului termoionic în vid, printr-un proces de depunere fizică prin vapori ionizaţi, filmele de aliaj fiind folosite pentru a împiedica retenţia combustibilului utilizat pentru reacţia de fuziune din reactoarele nucleare. Aliajele conform invenţiei sunt constituite din amestecuri de faze pure de Be, W, C şi din cel puţin o fază BeW, în cazul aliajului Be-W, şi o fază BeC, în cazul aliajului Be-C, şi sunt nanostructurate, având dimensiunea particulelor de ordinul a 10 nm. Instalaţia conform invenţiei este formată din două generatoare (1 şi 14) de curent continuu şi tensiune înaltă, două rezistenţe (2 şi 13) de balast, doi anozi (3 şi 12), doi cilindri (4) de focalizare tip Wehnelt, o bară anodică (5) din W sau C, cu diametrul de 10 mm şi 150 mm lungime, o nacelă (11) din TiBeumplută cu pulbere (10) de Be, doi catozi (6 şi 9) circulari, realizaţi din sârmă de W cu diametrul de 1 mm, un suport (8) de probe şi două microbalanţe (16 şi 17) de cuarţ. Procedeul conform invenţiei constă în încălzirea prin fascicul electronic a părţii superioare a barei (5) de W şi a pulberii (10) de TiBedin nacelă (11), prin aplicarea unei tensiuni alternative pe catozii (6 şi 9) de W, urmată de aplicarea unei tensiuni înalte între anod (5) din W şi catodul corespunzător, până când între aceştia apare o descărcare electrică, controlată de fascicul de electroni emis de catod; se procedează similar şi cu evaporatorul din Be, se