Descriere:

Invenţia se referă la un procedeu de depunere prin pulverizare pirolitică în mediu deschis. Procedeul conform invenţiei se caracterizează prin aceea că depunerea se efectuează prin pulverizare pirolitică în mediu deschis, utilizând o soluţie () de precursor lichid, cu formarea unor aerosoli care sunt disperaţi într-un gaz () purtător, şi care sunt apoi depuşi pe substraturi () încălzite, prin uscarea picăturilor depuse rezultând cristalizarea nanostructurilor, pentru depunere fiind utilizat un robot () industrial, pe care este montat un pulverizator () a cărui traiectorie este generată automat, generarea automată a traiectoriei fiind bazată pe selectarea modelului CAD al piesei/substratului pe care urmează a se efectua pulverizarea, şi stabilirea parametrilor caracteristici pulverizării pirolitice, şi anume: unghiul de înclinare al pulverizatorului, pasul dintre două treceri succesive, înălţimea de pulverizare, presiunea gazului purtător, numărul de treceri, viteza de deplasare a pulverizatorului şi timpul dintre două treceri succesive.